由我国物理学会和上海市物理学会主办，上海交通大学物理系承办的第六届薄膜物理与使用世界会议于2007年9月26日至28日在上海交通大学浩然高科技大厦举行。来自美国、俄罗斯、日本、英国、韩国和我国的专家学者以及研讨生160多人参加了此次会议。校长张杰院士和中科院上海技能物理研讨所褚君浩院士担任此次会议的大会主席；长江学者沈文忠教授担任组委会主席。在开幕式上叶取源常务副校长做了大会致辞。

  本次世界会议包含2个大会陈述、15个约请陈述、34个口头陈述和111个粘贴陈述。俄罗斯科学院半导体所副所长A. V. Dvurechenskii教授与清华大学薛其坤院士做了大会陈述。《Journal of Crystal Growth》杂志主编、美国威斯康星大学麦迪逊分校的T. F. Kuech教授，日本大阪大学的T. Sugino教授等做了约请陈述。会议前期对会议陈述做了严厉的预评定以确保会议质量，论文全文将在严厉审稿之后在世界光学工程学会《SPIE Proceedings》上以会议论文集的方式出书，并在全球发行。会议对薄膜物理科学创新和开展起到了推动效果，得到国内外专家学者的高度赞扬。

  近年来，薄膜技能的使用已浸透至国民经济与科技的一切的范畴，最为广泛的使用便是半导体工业。整个半导体制作便是先进薄膜工艺的调集，因而薄膜资料及相关的技能评论研讨引起了世界各国科学家的广泛重视。每三年一届的薄膜物理与使用世界会议，正是为从事薄膜技能和产品研制的专业技能人员供给了沟通薄膜最新技能与开展意向的渠道，然后推动薄膜技能渐渐的提高。现在它不单单是国内安排举行的薄膜物理及使用方面重要的世界盛会和重要学术论坛，也是世界光学工程学会SPIE旗下的世界重要系列会议之一。

  此次会议陈述了薄膜理论、薄膜资料、薄膜成长技能和薄膜使用等四个方面世界最前沿开展。会议期间评论火热、学术气氛稠密，关于我国薄膜物理与使用范畴的开展以及世界学术沟通和协作起到了活跃的效果，一起也扩展了上海交通大学物理系在世界物理界尤其是薄膜物理和使用范畴方面的影响。